特許

J-GLOBAL ID：200903043971929045

露光方法および装置、ならびにデバイス製造方法

発明者： 森貞 雅博
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-340445
公開番号（公開出願番号）：特開平9-251955
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 露光時間をさらに短縮する。【解決手段】 ステップアンドスキャン型の露光装置において、基板ステージのスキャン移動区間(目標位置Pn )とステップ移動区間(目標位置Pn+1 )が隣り合う場合、前記スキャン移動区間におけるスキャン露光が完了した(En )後、更に好ましくはかつそのスキャン移動区間における前記基板ステージの減速を開始する前にステップ移動区間における前記基板ステージの加速を開始する。あるいはスキャン移動区間またはステップ移動区間における減速時の目標加速度もしくはジャーク、および加速時の目標加速度もしくはジャーク、スキャン移動速度、ならびに加速整定時間のうちのいずれか、あるいはこれらの任意の組合せに応じて、スキャン移動区間またはステップ移動区間の加速開始のタイミングを変更する。

請求項（抜粋）：

ウエハを所定方向へスキャン移動して走査露光する動作と、ウエハを該所定方向と異なる方向へステップ移動する動作との組み合わせによって、マスクパターンをウエハの複数の領域に並べて転写する露光方法において、少なくとも、該スキャン移動と該ステップ移動の一方の移動が停止する前に、他方の移動を開始することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00

FI (5件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 T ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 516 B