特許

J-GLOBAL ID：200903043980566419

密閉形熱応動スイッチの製造装置

発明者： 水谷 靖和 ,  小関 秀樹
出願人/特許権者： 株式会社生方製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-234252
公開番号（公開出願番号）：特開平8-077864
出願日： 1994年09月01日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】設定された気体を封入し気密構造を有する熱応動スイッチの製造に於て、金属外筒内に熱応動スイッチ構造部分と設定気体とを封入して且つ密閉するための一連の工程を1個の製造装置上で順次に連続して効率よく進行させるようにした技術手段を提供する。【構成】円盤7上の同一円周上に上蓋部分4が開閉可能で内部に上下の各電極を摺動可能に収容した電極鞘1を同間隔で配設する。円盤7の均一な間欠回動により進行する熱応動スイッチの密閉作業の工程において、排気工程を複数段階に分けて進める。そのため排気工程がその前後工程の各々よりも長時間を要しても工程全体の能率を阻害しない。よって円盤7の均一な間欠回動に何の制約も与えることなく所要の真空度が達成でき、円滑な連続運転により効率よく設定気体を封入して密閉することができる。

請求項（抜粋）：

上蓋部が開閉可能でその内部に上下一組の電極を摺動可能に収容し、該上下電極間に熱応動スイッチの部材を挟持して該スイッチの外筒内の気体の置換と密閉との加工を順次施し得るようにした電極鞘と、該電極鞘をその円周に沿って等間隔に配設され、該電極鞘の配設数に対応した間欠回動数で一巡旋回して、該間欠回動の停止毎に各停止部位にて該電極鞘に前記熱応動スイッチの加工を順次行なわせる円盤と、該円盤の下側でこれと一体的に旋回するよう配設され前記電極鞘の各々の排気口及び充填口に対し該排気口とそれぞれ連通する一つの同心円上に配置の排気ポート及び該充填口とそれぞれ連通する今一つの異なる半径の同心円上に配置された充填バルブポートを具えるバルブ円板と、該バルブ円板の下面に摺動可能に密接し、前記円盤停止部位の隣り合う少なくとも2ヵ所以上の部位にて前記排気ポートに同時連通してこれに排気手段を接続する複数のバキュームポート及び該バキュームポートの同時連通の最終段部位の次の円盤停止部位にて前記充填バルブポートに連通しこれに所定の気体を供給する給気ポートとを具えたバルブステータを具えた事を特徴とする密閉形熱応動スイッチの製造装置。

IPC (2件)：

H01H 11/00 ,  H01H 37/54

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-033222
  
• 特公平5-006298
  
• 特公平2-016986
  
• 特開平4-349195