特許

J-GLOBAL ID：200903043989833118

蛍光X線分析における試料マスク径の判別方法および蛍光X線分析装置

発明者： 奥田 和明 ,  戸田 勝久
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293211
公開番号（公開出願番号）：特開2000-121583
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】 特別の装置を必要としたり、測定元素の数が増えることなく、マスク径の判別を短時間で正確に行って、X線分析時の測定ミスをなくせるマスク径の判別方法を提供する。【解決手段】 試料1を支持する試料ステージ19をマスク3の径方向に移動させる。これと並行して、マスク3上の一部分から発生する1種もしくは複数の蛍光X線B2、またはマスク3により反射された1次X線B1の散乱線を視野制限用の絞り孔14Aを通して検出する。検出したX線の強度を基準強度と比較してマスク孔4の径を判別する。

請求項（抜粋）：

試料をマスクで覆ってマスク孔により試料の測定面を露出させ、この測定面に1次X線を照射し、試料から発生する蛍光X線を検出して、試料を分析する蛍光X線分析の際にマスク径を判別する方法であって、試料を支持する試料ステージをマスクの径方向に移動させながら、マスク上の一部分から発生する1種もしくは複数の蛍光X線、またはマスクにより反射された1次X線の散乱線を視野制限用の絞り孔を通して検出し、基準強度との比較によりマスク孔の径を判別する蛍光X線分析における試料マスク径の判別方法。

IPC (3件)：

G01N 23/223 ,  G01B 15/00 ,  G21K 1/06

FI (3件)：

G01N 23/223 ,  G01B 15/00 Z ,  G21K 1/06 S

Fターム (30件)：

2F067AA22 ,  2F067CC16 ,  2F067HH04 ,  2F067JJ03 ,  2F067KK01 ,  2F067KK07 ,  2F067LL02 ,  2F067LL15 ,  2F067NN03 ,  2F067NN04 ,  2F067RR24 ,  2F067RR29 ,  2F067UU01 ,  2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA14 ,  2G001CA01 ,  2G001EA02 ,  2G001EA03 ,  2G001FA01 ,  2G001FA06 ,  2G001GA04 ,  2G001GA05 ,  2G001GA13 ,  2G001NA10 ,  2G001NA15 ,  2G001NA17 ,  2G001PA11 ,  2G001PA12 ,  2G001SA01