特許
J-GLOBAL ID:200903043990809140

反射防止構造体

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-043462
公開番号(公開出願番号):特開2008-209448
出願日: 2007年02月23日
公開日(公表日): 2008年09月11日
要約:
【課題】 凹凸周期構造層の製造が容易で、機械的強度が高く、優れた反射防止性能を有している反射防止構造体を提供する。また、凹凸周期構造層として使用可能な材料の選択範囲が広く、様々な基材に対して反射防止機能を付与できる反射防止構造体を提供する。【解決手段】 使用する光に対して透過性を有する基材上に、該基材より屈折率が高い材料からなり、前記光の波長以下の周期で微細な突起群を有する凹凸周期構造層が形成されてなる反射防止構造体である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
使用する光に対して透過性を有する基材上に、該基材より屈折率が高い材料からなり、前記光の波長以下の周期で微細な突起群を有する凹凸周期構造層が形成されてなる反射防止構造体。
IPC (1件):
G02B 1/11
FI (1件):
G02B1/10 A
Fターム (3件):
2K009AA01 ,  2K009DD12 ,  2K009DD15
引用特許:
出願人引用 (3件)

前のページに戻る