特許
J-GLOBAL ID：200903043997648591
蒸着マスクのクリーニング方法、蒸着マスククリーニング装置、有機EL素子の製造方法、および、有機EL素子の製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
原 謙三
, 木島 隆一
, 金子 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-361934
公開番号（公開出願番号）：特開2006-169573
出願日： 2004年12月14日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】 本来の形状寸法を維持しつつ、できるだけ多数回、蒸着マスクの使用を可能にすることのできる蒸着マスクのクリーニング方法を実現する。【解決手段】 堆積物が付着した蒸着マスク1に対し、蒸着マスク1における堆積物が付着した面の振動を誘起するレーザービーム15を照射し、蒸着マスク1から堆積物を剥離する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
蒸着マスクから、当該蒸着マスクに付着した当該蒸着マスクとは異なる材質を有する堆積物を除去する蒸着マスクのクリーニング方法において、
上記蒸着マスクにおける上記堆積物が付着した面の振動を誘起するエネルギービームを、上記堆積物が付着した上記蒸着マスクに照射し、
上記蒸着マスクから上記堆積物を剥離することを特徴とする蒸着マスクのクリーニング方法。
IPC (4件)：
C23C 14/24
, C23C 14/54
, H05B 33/10
, H01L 51/50
C23C14/24 G
, C23C14/54 G
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029BA62
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029FA09
, 4K029HA01
