特許
J-GLOBAL ID：200903044006612892
レーザビーム用マスク装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木内 光春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-074821
公開番号（公開出願番号）：特開平5-277776
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月26日
要約：
【要約】【目的】 レーザビーム用マスク装置において、マスクパターンを形成している薄膜やマスクの母材に損傷を与えないようにする。【構成】 マスク10に形成されるマスクパターン5が、透過開口部となるマスクパターン5内に入射するレーザビームを全透過し、それ以外に入射するレーザビームを全反射する薄膜11より形成されている。また、マスク10は光軸に対してある任意の角度で傾斜して設置され、さらに、マスク10により反射された反射光12は、吸収体13により吸収されるように構成されている。
請求項（抜粋）：
マスク上に所定のマスクパターンを形成したレーザビーム用マスク装置において、前記マスクパターンを形成する薄膜が、マスクパターン内に入射するレーザビームを全透過し、それ以外に入射するレーザビームを全反射する部材により構成され、また、前記マスクがレーザビームの光軸に対してある任意の角度で傾斜して設置され、さらに、マスクにより反射された反射光が、吸収体により吸収されるように構成されていることを特徴とするレーザビーム用マスク装置。
IPC (3件)：
B23K 26/06
, H01S 3/00
, H01S 3/10
