特許

J-GLOBAL ID：200903044019121111

パルスレーザーによる被膜形成方法

発明者： 永 井 亨 ,  平 賀 仁 ,  井 上 尚 志
出願人/特許権者： 株式会社レーザー応用工学研究所
代理人 (1件)： 林 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257591
公開番号（公開出願番号）：特開2001-081576
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、基板の形状によらず、被溶融材料が高融点材料であっても、厚膜の被膜を確実に形成することができるパルスレーザーによる被膜形成方法を提供する。【解決手段】 パルス幅が0.1〜20msecの高パワー密度のパルスレーザー光1aを集光させて、ターゲット3に照射し加熱することにより生成する溶融粒子3aを、ターゲット3の近傍に配置する基板4上に付着・堆積させ、基板4上に膜厚が100μm〜1mmの被膜を形成してなる。

請求項（抜粋）：

パルス幅が0.1〜20msecの高パワー密度のパルスレーザー光を集光させて、ターゲットに照射し加熱することにより生成する溶融粒子を、上記ターゲットの近傍に配置する基板上に付着・堆積させ、上記基板上に膜厚が100μm〜1mmの被膜を形成することを特徴とするパルスレーザーによる被膜形成方法。

IPC (2件)：

C23C 26/02 ,  G02B 1/10

FI (2件)：

C23C 26/02 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (10件)：

2K009BB06 ,  2K009CC01 ,  2K009CC02 ,  2K009DD03 ,  4K044AA06 ,  4K044AA13 ,  4K044BA02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA10 ,  4K044CA41