特許
J-GLOBAL ID：200903044019309668
極めて清浄な条件下での製造のための一体化された建物及び搬送構造物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松井 光夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-509143
公開番号（公開出願番号）：特表平9-502792
出願日： 1993年11月24日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】建物が半導体製造設備を収容し、該設備は形状において環状であり、そして多階の構造である。サイロは、夫々のフロアーにおいてサイロの周囲に放射状に配置されたクリーンルームにウエハーを貯蔵しかつ移送することに使用するために中心に配置されている。人間のアクセスは、ウエハーの汚染を防ぐためにサイロ中及びクリーンルーム中において許されない。クリーンルーム構造のモジュール性のために、クリーンルームは、進行中の製造運転に著しい影響なしに、容易に構成を変更し得る。モジュール性はまた、設備の一部が必要でないときに稼動しなくすことを可能にする。
請求項（抜粋）：
極めて清浄な環境下でマイクロエレクトロニクスデバイスを製造するための建物において、 物質(その上に該マイクロエレクトロニクスデバイスが製造される)を分配するための中央制御区域を提供するための、建物の中に配置された中央の包囲域、 フロアー、 該フロアーの上に配置された天井、 該中央の包囲域から外側に放射状に伸びており、かつ該中央の包囲域の周囲に複数のスパインを形成するために配置された複数の仕切り壁(ここで、該仕切り壁は、該フロアー及び該天井に連結する)、 複数の完全に包囲されたクリーンルームが該中央の包囲域の周囲に同心円的に形成されるように、該中央の包囲域の周囲に同心円的に配置され、かつ該フロアー、天井及び複数の仕切り壁に連結された第一の分割壁(ここで、該クリーンルームは、該物質を加工するための加工装置を入れるためのものである)、 該クリーンルームの一つの環境の完全性の破壊が他の該クリーンルームの環境の完全性を乱さないように、該クリーンルームの夫々の中に小環境を形成するために該クリーンルームの夫々は、他の該クリーンルームから環境的に隔離されていること、 該中央の包囲域及び該クリーンルームは、極めて清浄な小環境を維持するために極めて純粋な空気又はガスの流れを持つこと、 該中央の包囲域と該クリーンルームの間で該物質を移送するために、該中央の包囲域は、該クリーンルームの夫々への開口部を持つこと、 該中央の包囲域内で、及び該開口部を通して該中央の包囲域と該クリーンルームの間で該物質を搬送するための、該中央の包囲域に連結された自動化された物質取扱い装置を含み、ここで、該物質は該極めて清浄な環境中で加工するために種々のクリーンルームに搬送される建物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
F24F 7/06 C
, H01L 21/68 A
