特許

J-GLOBAL ID：200903044020385106

光学薄膜およびその製造方法

発明者： 豊原 延好 ,  川俣 健 ,  生水 利明
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-316636
公開番号（公開出願番号）：特開平8-171002
出願日： 1994年12月20日
公開日（公表日）： 1996年07月02日
要約：

【要約】【目的】 単層あるいは少ない層数で充分に光学特性を有する光学薄膜と、この光学薄膜をスパッタリング法によりを製造する方法を提供する。【構成】 CaF3 、またはLiF、またはNa3 AlF6 、またはNa5 Al3 F14、またはSrF2 のいずれかとシリコンとの混合物によりそれぞれ構成したターゲットを、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより、基板上に光学薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

CaF3 、またはLiF、またはNa3 AlF6 、またはNa5 Al3 F14、またはSrF2 のいずれかとシリコンとの混合物によりそれぞれ構成したターゲットを、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより形成することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/30