特許

J-GLOBAL ID：200903044028616972

プラズマ処理装置

発明者： 今橋 一成 ,  石井 信雄 ,  輿水 地塩
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-135881
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304118
出願日： 1992年04月28日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：

【要約】【目的】 プラズマの発光スペクトル強度に基づいてプラズマ状態を一定に制御し、あるいは最適なプラズマ状態に設定すること。【構成】 電子サイクロトロン共鳴方式のエッチング装置において、プラズマ発生室内10内のプラズマ発光は、検出窓60,レンズ62を介して第1,第2の分光器64,66に入力する。この発光スペクトル強度として、エッチングの進行状況に依存しないガス例えばArの異なる2つの波長における発光強度を測定する。この測定された2つの発光スペクトル強度の比率を一定にすると、プラズマ発生室10内の電子の平均温度がほぼ一定となり、プラズマの状態がほぼ一定に保たれる。2つの発光スペクトル強度の比率が変化した場合、コイル44,54に通電すべきコイル電流の値を変化させて、2つの発光スペクトル強度の比率がほぼ一定になるように制御する。

請求項（抜粋）：

処理ガスを導入し、プラズマを生成して被処理体を処理するプラズマ装置において、前記プラズマ中の複数の異なる波長の発光スペクトル強度をそれぞれ検出する検出手段と、この複数の発光スペクトル強度に基づいて、前記プラズマを生成するパラメータ群の少なくとも一つを可変制御してプラズマ状態を制御する制御手段と、を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-077940
  
• 特開昭64-047027
  
• 特開昭63-289934
  
• 特開昭63-177525