特許
J-GLOBAL ID:200903044032843550

ウエット処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 福森 久夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-036061
公開番号(公開出願番号):特開2002-299304
出願日: 1998年05月28日
公開日(公表日): 2002年10月11日
要約:
【要約】【課題】 ウエット処理液の使用量を従来の10分1以下へと低減し、かつ従来よりも高い清浄度を得ることができる省水型のウエット処理装置を提供すること。【解決手段】 一側に処理液3を導入する導入側通路5と他側にウエット処理後の処理液3を排出する排出側通路6とを備え、導入側通路5と排出側通路6との間に、被処理物1に対し導入側通路5から導入した処理液3をガイドしかつ振動を与えながら被処理物1をウエット処理する振動ガイド部材2を備えたウエット処理本体15を設け、振動ガイド部材2と被処理物1とを所定間隙に維持し、間隙に処理液3を保持させる位置調整部材4を設けてなり、振動ガイド部材2が振動子7を備えており、振動ガイド部材2の被処理物側と反対の外面に振動子を形成し、振動ガイド部材2の内部に振動子7からの振動を振動ガイド部材の被処理物側の外面に伝える液11を備えたこと。
請求項(抜粋):
一側に処理液を導入する導入側通路と他側にウエット処理後の処理液を排出する排出側通路とを備えるとともに、前記導入側通路と前記排出側通路との間に、被処理物に対し前記導入側通路から導入した前記処理液をガイドしかつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材を備えたウエット処理本体を設け、該振動ガイド部材と前記被処理物とを所定間隙に維持し、該間隙に前記処理液を保持させる位置調整部材を設けてなり、前記振動ガイド部材が振動子を備えており、前記振動ガイド部材の前記被処理物側と反対の外面に前記振動子を形成し、前記振動ガイド部材の内部に前記振動子からの振動を該振動ガイド部材の前記被処理物側の外面に伝える液(空打ち防止液)を備えたことを特徴とするウエット処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/306
FI (4件):
H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/304 648 K ,  B08B 3/12 Z ,  H01L 21/306 J
Fターム (17件):
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB42 ,  3B201BB03 ,  3B201BB72 ,  3B201BB77 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  5F043AA02 ,  5F043AA40 ,  5F043BB27 ,  5F043DD12 ,  5F043DD19 ,  5F043GG10
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-213826
  • 高周波洗浄装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-264176   出願人:株式会社プレテック, 大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-213826

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