特許
J-GLOBAL ID：200903044047257533
液処理槽および液処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-241716
公開番号（公開出願番号）：特開平5-076811
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：
【要約】【目的】ガラス基板やシリコン基板の洗浄処理、および洗浄,現像,剥離,エッチング後の濯ぎ処理に用いる液処理槽において、持ち込まれる液による処理液の清浄度の低下を防止し、処理装置の処理槽数を削減し、処理装置の全長を短くし、装置コストを低減する。【構成】基板を水平に搬送して処理を行う処理槽内を分割し、基板を受け入れる側に排出口を設け、回収する処理液と排水する処理液を分離する。【効果】処理槽に持ち込む処理液を低減させることが出来るため、洗浄後の濯ぎにおいては濯ぎ水の清浄度をたもつことが可能であり、濯ぎのための処理槽の数を低減できる。それにより、これらの処理槽を持つ処理装置の全長を低減出来る。
請求項（抜粋）：
基板を水平方向に搬送しながら処理液を吐出して処理を行う処理槽において、処理槽内の処理液を複数に分割して処理槽から流出する機能を備えていることを特徴とする液処理槽。
IPC (5件)：
B05C 3/02
, B05C 9/10
, B05C 11/10
, B08B 3/02
, H01L 21/304 341
