特許

J-GLOBAL ID：200903044054878543

シャワーヘッド式CVD装置

発明者： 新井 朝子 ,  松本 功 ,  田渕 俊也
出願人/特許権者： 日本酸素株式会社
代理人 (1件)： 木戸 一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-020820
公開番号（公開出願番号）：特開平8-218171
出願日： 1995年02月08日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：

【要約】【目的】 原料をシャワーヘッド状のノズルから噴出して基板上に薄膜を形成するシャワーヘッド式CVD装置において、良質な薄膜を形成するとともに、成膜速度の向上を図る。【構成】 所定温度に加熱された基板に対向配置されるシャワーヘッドノズルに、冷却油流路14及び放熱ロッド17からなる冷却手段を設ける。

請求項（抜粋）：

原料ガスを噴出するシャワーヘッドノズルを、所定温度に加熱された基板に対向配置したシャワーヘッド式CVD装置において、前記シャワーヘッドノズルに、ノズルを冷却する冷却手段を備えたことを特徴とするシャワーヘッド式CVD装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  C30B 25/10 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

C23C 16/44 D ,  C30B 25/10 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-005891   出願人：株式会社東芝
• 特開昭63-297563
  
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-180670   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社