特許
J-GLOBAL ID:200903044055343970

ポストキユアインフレータ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶 良之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-326467
公開番号(公開出願番号):特開平5-131462
出願日: 1991年11月13日
公開日(公表日): 1993年05月28日
要約:
【要約】【目的】 構造が簡単で、下部リムの落下防止装置が不要で、メンテナンススペースを充分取ることができるポストキュアインフレータを提供する。【構成】 タイヤ加硫機5で加硫成形された加硫済タイヤ35を受け取って、接離自在な上部リム21と下部リム22間に挟持し、高圧エアを加硫済タイヤ35内に封入して膨張させ、所定時間保持して冷却を行った後排出するポストキュアインフレータであって、受取・挟持・膨張・排出を行う操作ステーションXと冷却のための保持ステーションYとを別個に設け、上下部リム21、22はタイヤ35を挟持した状態で操作ステーションXにおける位置と保持ステーションYにおける位置とを切り換え自在に取ることができるようにしたポストキュアインフレータにおいて、前記操作ステーションXと保持ステーションYを水平面内に配置することにより構造が簡単で、下部リムの落下防止装置が不要で、メンテナンススペースを充分取ることができるようにした。
請求項(抜粋):
タイヤ加硫機で加硫成形された加硫済タイヤを受け取って、接離自在な上部リムと下部リム間に挟持し、高圧エアを加硫済タイヤ内に封入して膨張させ、所定時間保持して冷却を行った後排出するポストキュアインフレータであって、受取・挟持・膨張・排出を行う操作ステーションと冷却のための保持ステーションとを別個に設け、上下部リムはタイヤを挟持した状態で操作ステーションにおける位置と保持ステーションにおける位置とを切り換え自在に取ることができるようにしたポストキュアインフレータにおいて、前記操作ステーションと保持ステーションを水平面内に配置したことを特徴とするポストキュアインフレータ。
IPC (5件):
B29C 35/16 ,  B29C 33/04 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:24 ,  B29L 30:00
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭58-005242

前のページに戻る