特許

J-GLOBAL ID：200903044074956460

放射光X線露光方法

発明者： 太田 恒明
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-285527
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135107
出願日： 1996年10月28日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 近接ギャップが実用的な大きさであり、かつマスクパターンのサイジングを行うことなく所望の幅のレジストパターン、より厳密には露光パターンを得ることができる放射光X線露光方法を提供すること。【解決手段】 SORリソグラフィ用ステッパを用いて、近接ギャップLを20μmとする。そして、基板10とX線マスク12との位置合わせを行う。その後、X線マスク12をラインアンドスペースパターン20のパターン幅の方向に沿う2箇所の位置の間で連続的に動かし、その間X線マスク12を通じてX線(SOR光)を照射し続ける。すなわち、X線マスク12をラインアンドスペースパターン20のパターン幅の方向に沿う2箇所の位置の間でスキャンさせ、その間X線マスク12を通じてX線(SOR光)を照射し続ける。

請求項（抜粋）：

X線マスクを用いて、該X線マスクのマスクパターンを基板上に設けたレジスト膜に転写して露光パターンを形成する放射光X線露光方法において、前記X線マスクを前記マスクパターンのパターン幅の方向に沿う2箇所の位置間で動かし、前記X線マスクを通じたX線照射を、前記2箇所の位置間で間欠的にまたは連続的に行って、部分的に重なり合う複数の副露光パターンを形成し、これら副露光パターンで1つの前記露光パターンとしたことを特徴とする放射光X線露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 531 E ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521