特許

J-GLOBAL ID：200903044080599954

基板処理装置

発明者： 高桑 康憲 ,  柳沢 愛彦
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-179246
公開番号（公開出願番号）：特開2002-373890
出願日： 2001年06月13日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】 加熱された基板の冷却効率並びに処理速度の向上を図ると共に、大気圧下又は減圧下にあっても有効に冷却を行うこと【解決手段】 基板60の成膜処理を行う反応室とは別個独立して設けた冷却対象物たる前記基板60の出入用の開口部10aを有する冷却室10と、この冷却室10の内部に配設し且つ搬入された基板60を少なくとも一つ載置保持する基板載置手段20と、この基板載置手段20に載置された基板60の外殻部側から当該基板60の面に対して略平行に冷却ガスを供給するブレークフィルタ32を備えたガス供給手段30と、基板60を挟んでガス供給手段30の略反対側に配設する排気手段40と、冷却室10の開口部10aを閉塞する移動自在なゲートバルブ50とを備えること。

請求項（抜粋）：

基板の成膜処理を行う反応室とは別個独立して設けた冷却対象物たる前記基板の出入用の開口部を有する冷却室と、該冷却室の内部に配設し且つ搬入された前記基板を少なくとも一つ載置保持する基板載置手段と、該基板載置手段に載置された基板の外殻部側から当該基板の面に対して略平行に冷却ガスを供給するブレークフィルタを備えたガス供給手段と、前記基板を挟んで前記ガス供給手段の略反対側に配設する排気手段と、前記冷却室の開口部を閉塞する移動自在なゲートバルブとを有することを特徴とした基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 B ,  H01L 21/68 N

Fターム (18件)：

4K030DA08 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030KA08 ,  4K030KA26 ,  5F031CA02 ,  5F031DA17 ,  5F031HA02 ,  5F031HA09 ,  5F031HA12 ,  5F031HA38 ,  5F031NA04 ,  5F031NA09 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045EB08 ,  5F045EJ02 ,  5F045EN04