特許

J-GLOBAL ID：200903044084845208

金属酸化物の製造方法及びガスセンサ

発明者： 田島 基史 ,  足立 正 ,  中井 健人
出願人/特許権者： 株式会社クボタ ,  ホーチキ株式会社
代理人 (1件)： 北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-235351
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059160
出願日： 1999年08月23日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 高ガス感度が得られるガス感応性金属酸化物の製造方法及び高性能のガスセンサを提供する。【解決手段】 所定のガスに感応してその電気特性が変化するガス検知用の金属酸化物の製造方法、または、かかる金属酸化物を備えてなるガスセンサであって、電子ビーム蒸着法または抵抗加熱蒸着法により金属酸化物1の原料金属を所定の基板2上に蒸着させる工程と、ラジカルビーム源6により酸素をラジカル化して基板2上に供給する工程とを同時に実行して、基板2上に金属酸化物1を形成する。

請求項（抜粋）：

所定のガスに感応してその電気特性が変化するガス検知用の金属酸化物の製造方法であって、電子ビーム蒸着法または抵抗加熱蒸着法により前記金属酸化物の原料金属を所定の基板上に蒸着させる工程と、前記基板上に酸素をラジカル化して供給する工程とを同時に実行して、前記基板上に前記金属酸化物を形成することを特徴とする金属酸化物の製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/08

FI (2件)：

C23C 14/24 M ,  C23C 14/08 D

Fターム (6件)：

4K029BA47 ,  4K029BD00 ,  4K029CA04 ,  4K029CA09 ,  4K029DB18 ,  4K029DB21