特許

J-GLOBAL ID：200903044113588376

光ディスク、光ディスクの製造方法、光ディスク用原盤および光ディスク用原盤の製造方法

発明者： 大胡 高志
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-326520
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142229
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 ジッタのバラツキの少ないガラス原盤を製造する光ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】 光ディスク原盤6の製造方法において、少なくとも基板10上に、露光により酸が生成されてこの酸が触媒として作用する感光性樹脂11を塗布する工程と、上記感光性樹脂11をレーザ光3により露光し情報を示すパターンの潜像4を形成する工程と、上記感光性樹脂11を現像して情報を示すパターン5を形成する工程とがこの順番に施され、前記感光性樹脂11を塗布する工程が終了してから略24時間以内に、前記感光性樹脂11をレーザ光3により露光し情報を示すパターンの潜像4を形成する工程を行うようにことを特徴とする光ディスク原盤6の製造方法。

請求項（抜粋）：

光ディスク用原盤の製造方法において、少なくとも基板上に、露光により酸が生成されてこの酸が触媒として作用する感光性樹脂を塗布する工程と、上記感光性樹脂をレーザ光により露光し情報を示すパターンの潜像を形成する工程と、上記感光性樹脂を現像して情報を示すパターンを形成する工程とがこの順番に施され、前記感光性樹脂を塗布する工程が終了してから略24時間以内に、前記感光性樹脂をレーザ光により露光し情報を示すパターンの潜像を形成する工程を行うようにしたことを特徴とする光ディスク用原盤の製造方法。

IPC (4件)：

G03F 7/38 501 ,  G03F 7/039 601 ,  G11B 7/26 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/38 501 ,  G03F 7/039 601 ,  G11B 7/26 501 ,  H01L 21/30 565

Fターム (28件)：

2H025AA00 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H096AA27 ,  2H096BA20 ,  2H096EA04 ,  2H096EA30 ,  2H096GA08 ,  5D121AA02 ,  5D121BA03 ,  5D121BB02 ,  5D121BB21 ,  5D121BB28 ,  5D121BB31 ,  5D121BB40 ,  5D121CA03 ,  5D121CB03 ,  5D121DD05 ,  5D121GG07 ,  5D121GG20 ,  5F046CA03 ,  5F046DA29