特許
J-GLOBAL ID：200903044115368411
カーボンナノチューブの作製方法、及びカーボンナノチューブの作製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
杉村 興作
, 高見 和明
, 徳永 博
, 藤谷 史朗
, 来間 清志
, 大山 健次郎
, 冨田 和幸
, 阿相 順一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-032036
公開番号（公開出願番号）：特開2005-187309
出願日： 2004年02月09日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】プラズマCVD法において、欠陥を有しない高品質なCNTを作製する。【解決手段】所定の成膜容器11内に設けられたカソード電極12に基板を配置する。次いで、カソード電極12の上方にグリッド電極17を配置する。次いで、成膜容器11内に原料ガスを流すとともに、前記原料ガスをプラズマ化し、前記基板上にカーボンナノチューブを形成する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
所定の成膜容器内に設けられたカソード電極に基板を配置する工程と、
前記カソード電極の上方にグリッド電極を配置する工程と、
前記成膜容器内に原料ガスを流すとともに、前記原料ガスをプラズマ化し、前記基板上にカーボンナノチューブを形成する工程と、
を具えることを特徴とする、カーボンナノチューブの作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B31/02 101F
, B82B3/00
4G146AA11
, 4G146AB07
, 4G146AD23
, 4G146AD24
, 4G146AD29
, 4G146BA48
, 4G146BC09
, 4G146DA16
