特許

J-GLOBAL ID：200903044134441014

光起電力装置の製造装置

発明者： 細川 弘 ,  木山 精一
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 鳥居 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-253174
公開番号（公開出願番号）：特開平5-063222
出願日： 1991年09月03日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【目的】 被加工物の膜構成のバラツキの如何にかかわらず、常に最適な加工条件下でエネルギビーム加工を行うことのできる光起電力装置の製造装置を提供する。【構成】 レーザ発振器1からのレーザビームLを光学系2を介して被加工物Wの被加工領域に照射し、この被加工領域を除去する工程において、時間測定手段3が、常時被加工物Wに対するレーザビームLの照射開始時から被加工領域の除去完了までに要する時間を測定する。条件制御手段4が、時間測定手段3の測定結果を、予め設定した被加工領域の除去に要する最適値と比較しつつ、この最適値に一致するようレーザビームLの照射条件を逐次変化させていく。これにより、最適な照射条件下での被加工領域の除去を被加工物W全面にわたって実現する。

請求項（抜粋）：

レーザビームを被加工物の被加工領域に照射して、この被加工領域を除去する工程を行う光起電力装置の製造装置において、前記レーザビームの照射開始時から前記被加工領域の除去完了までの時間を測定する時間測定手段と、この時間測定手段により測定された時間に基づき、前記レーザビームの照射条件を最適化する条件制御手段とを備えてなることを特徴とする光起電力装置の製造装置。

IPC (3件)：

H01L 31/04 ,  H01L 21/302 ,  H01S 3/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭54-072600
  
• 特開平3-154385
  
• 特開昭64-083390
  
• 特開昭63-066931