特許
J-GLOBAL ID:200903044140145320

アッシング方法及びアッシング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高月 亨
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-255790
公開番号(公開出願番号):特開平6-177088
出願日: 1992年08月31日
公開日(公表日): 1994年06月24日
要約:
【要約】【目的】 容易かつ生産性良好に、イオン注入後のレジスト等従来除去し難かったレジストの除去剥離をも容易に行うことができるアッシング方法、及びこれに用いるアッシング装置を提供する。【構成】 ?@温度0°Cまたはその近傍あるいはそれ以下の温度に被処理体を冷却Iして該被処理体上のレジストをアッシングするIIアッシング方法及び装置。?A被処理体を冷却した後、通常の温度で、又は該被処理体を加熱(急熱)IIIし、該被処理体上のレジストをアッシングするアッシング方法及び装置。?B冷却アッシング室及び加熱アッシング室を有するアッシング装置。?C該?Bの加熱・冷却室を交換して交互にアッシングする方法。?D極低温で超音波を印加してアッシングを行う方法及び装置。
請求項(抜粋):
温度0°Cまたはその近傍あるいはそれ以下の温度に被処理体を冷却して該被処理体上のレジストをアッシングすることを特徴とするアッシング方法。
IPC (4件):
H01L 21/302 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H05H 1/46
引用特許:
審査官引用 (15件)
  • 特開平4-120729
  • 特開平4-028219
  • 特開平4-007829
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