プラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木村満 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-070422
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270598
出願日： 2001年03月13日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：

【要約】【課題】高周波電力の利用効率の高いプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置1のチャンバ2を構成する天井と、側壁との間にバッフル板24を嵌め込み設置する。バッフル板24は、チャンバ2の上部にプラズマを閉じこめる機能を有するとともに、高周波電源へのリターン電流のリターン経路としての機能も有する。上記のようにバッフル板24の設置された構成においては、リターン経路上の界面が実質的に少なく、高周波電力の利用効率の高いプラズマ処理が可能となる。

請求項（抜粋）：

複数の部材から構成され、内部で被処理体に所定の処理が施されるチャンバと、前記複数の部材の1つに設置され、高周波電源の一端に接続される電極と、前記電極への高周波電力の印加により生成されたプラズマを前記チャンバ内の所定領域に閉じこめ可能なバッフル板と、を備え、前記バッフル板は、前記電極の設置された部材と、これに隣接する他の部材との間に挟まれて設置される、ことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 , C23C 16/509 , H01L 21/3065 , H05H 1/46

FI (4件)：

H01L 21/31 C , C23C 16/509 , H05H 1/46 M , H01L 21/302 C

Fターム (41件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA03 , 4K030KA12 , 4K030KA46 , 4K030KA47 , 5F004AA16 , 5F004BA04 , 5F004BB13 , 5F004BB22 , 5F004BB25 , 5F004BB26 , 5F004BC02 , 5F004BD04 , 5F004CA01 , 5F045AA08 , 5F045AB06 , 5F045AB31 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AC01 , 5F045AC02 , 5F045AC11 , 5F045AC12 , 5F045AC16 , 5F045AE11 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EB02 , 5F045EB03 , 5F045EB08 , 5F045EC05 , 5F045EH01 , 5F045EH05 , 5F045EH14 , 5F045EH19 , 5F045EJ03 , 5F045EJ05 , 5F045EJ09 , 5F045EM05 , 5F045EM10

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