特許

J-GLOBAL ID：200903044150990800

治療用目的の照射装置

発明者： ヴィルケンス ヤン ヘンリック ,  シュティルナー ロルフ
出願人/特許権者： オプトメド オプトメディカル システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ,  スペクトロメトリックス オプトエレクトロニック システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 藤田 アキラ
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-571155
公開番号（公開出願番号）：特表2004-532671
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

本発明は、皮膚や内部器官の細胞性炎症、HIV、プリオン感染、皮膚や粘膜の真菌性疾患、皮膚や粘膜の細菌性疾患、並びに手湿疹または肛門湿疹などのウイルス性および他の感染症の全体的あるいは部分的な細胞性炎症を治療するための照射装置に関するものである。本発明に係る装置は、表面治療領域を全般に照射するための少なくとも一つの照射装置を有し、それによって、治療領域への出射された照射の波長が400nmよりも長く、かつ400〜500nmの間の少なくとも一つのスペクトル帯を有する。この照射装置は付加的に治療対象領域に光学パルスを発生するための手段を有して成り、それによって光学パルスのピークの出力密度が0.5W/cm2よりも高く、かつ100kW/cm2よりも低く、パルスのエネルギーは0.05〜10J/cm2である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

治療対象の大きな領域を照射するための少なくとも一つの照射源を有して成り、上記治療領域上の出射波長が少なくとも400nmであり、400〜500nmの波長領域のスペクトル分を有するような、皮膚と内臓の全体的あるいは部分的な細胞性炎症を治療するための照射装置において、該照射装置が該治療対象領域上に光学パルスを発生するための手段を有し、ピーク照射強度が0.5W/cm2よりも高く、かつ100kW/cm2よりも低く、一つの出射光学パルスのエネルギー密度が0.05〜10J/cm2の間であることを特徴とする照射装置。

IPC (1件)：

A61N5/06

FI (1件)：

A61N5/06 Z

Fターム (12件)：

4C082PA02 ,  4C082PC01 ,  4C082PC02 ,  4C082PC03 ,  4C082PC10 ,  4C082PE02 ,  4C082PE03 ,  4C082PG05 ,  4C082PG15 ,  4C082PG16 ,  4C082PJ04 ,  4C082PL05

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電磁治療の方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-197889   出願人：イー・エス・シイ・メデイカル・システムズ・リミテツド