特許
J-GLOBAL ID:200903044155603049
水素吸蔵方法及び水素吸蔵装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-031629
公開番号(公開出願番号):特開2001-220101
出願日: 2000年02月09日
公開日(公表日): 2001年08月14日
要約:
【要約】【課題】 より多くの水素を吸蔵することができる水素吸蔵方法及び水素吸蔵装置を提供することにある。【解決手段】 細孔を有する炭素材料に水素を吸蔵させることを特徴とする水素吸蔵方法及び細孔を有する炭素材料と炭素材料を収納した容器とを含むことを特徴とする水素吸蔵装置である。炭素はその表面に気体分子、液体分子を吸着させる特性を有しており、炭素材料を用いることによりその表面に気体水素分子、液体水素分子を吸着させることができる。また炭素材料は細孔を有しているのでその比表面積は大きくなってより多くの水素分子を吸着させることができる。更に細孔内では水素分子と炭素材料との接触が多くなり、それだけ吸着効果が向上し、炭素材料に水素分子を固定的に吸着させることができる。
請求項(抜粋):
細孔を有する炭素材料に水素を吸蔵させることを特徴とする水素吸蔵方法。
IPC (6件):
C01B 3/00
, F17C 11/00
, B01J 20/20
, C01B 31/02 101
, C01B 31/08
, D01F 9/12
FI (6件):
C01B 3/00 B
, F17C 11/00 C
, B01J 20/20 A
, C01B 31/02 101 F
, C01B 31/08 Z
, D01F 9/12
Fターム (18件):
3E072EA01
, 4G040AA36
, 4G040AA42
, 4G046CB01
, 4G046CB05
, 4G046CB08
, 4G046HB01
, 4G046HB05
, 4G066AA04B
, 4G066AA05B
, 4G066BA23
, 4G066CA38
, 4G066EA20
, 4L037CS03
, 4L037CS04
, 4L037FA03
, 4L037FA04
, 4L037UA20
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