特許
J-GLOBAL ID:200903044162478110
連続真空処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-061021
公開番号(公開出願番号):特開平9-256158
出願日: 1996年03月18日
公開日(公表日): 1997年09月30日
要約:
【要約】【課題】 被処理物がテーピングされた走行フィルムを連続真空処理できかつコンパクトで簡単な構成の連続真空処理装置を提供する。【解決手段】 走行フィルム1を挟持してシールする帯状部分に弾性体を有して真空シールを行なうゲートバルブ20とフィルム送り手段30と真空排気手段とを備えた減圧室6〜9を、真空処理室11、12の前後にそれぞれ2室以上配設して成り、各減圧室6〜9において帯状のゲートバルブ構造により真空洩れ量を極めて小さくし、それを真空処理室11、12の前後に2室以上配設することにより真空処理に必要な真空圧を確保し、走行フィルム1の送り時には前段と後段のゲートバルブ20を必ず交互に真空排気後に開閉するようにした。
請求項(抜粋):
走行フィルムにテーピングされた被処理物に対し、連続的に真空処理する連続真空処理装置において、走行フィルムを挟持してシールする帯状部分に弾性体を有して真空シールを行なうゲートバルブとフィルムの送り手段と真空排気手段とを備えた減圧室を、真空処理室の前後にそれぞれ2室以上配設したことを特徴とする連続真空処理装置。
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