特許

J-GLOBAL ID：200903044164265083

ビスレゾルシンの製造法

発明者： 稲富 茂樹 ,  森 滋 ,  野原 敏勝
出願人/特許権者： 旭有機材工業株式会社
代理人 (1件)： 宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-290690
公開番号（公開出願番号）：特開平7-138200
出願日： 1993年11月19日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：

【要約】【目的】 ポジ型フォトレジスト用改質材として有用なビスレゾルシンを、高次縮合物の生成を抑制して2核体の生成率(収量)を高め、かつ構造異性体を殆ど含まない高純度の2核体を製造する方法を提供する。【構成】 4-置換レゾルシン類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下に反応させるビスレゾルシンの製造法。

請求項（抜粋）：

4-置換レゾルシン類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下に反応させることを特徴とするビスレゾルシンの製造法。

IPC (5件)：

C07C 39/16 ,  B01J 31/10 ,  C07C 37/20 ,  C07C 39/367 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-301850
  
• 特開平4-301851
  
• 特開平4-328555