特許
J-GLOBAL ID：200903044180744145
多重コントラストレジストパターンの製造方法、及び多層レジスト
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-227264
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066568
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】多重コントラスト光プロファイルの強弱が精度良く転写された多重コントラストレジストパターンの製造方法を提供し、多重コントラスト露光の制御性を向上し、多重コントラスト露光効果を向上した多層レジストを提供する。【構成】支持体1上に下層フォトレジスト層2、光退色性及び/又は光吸収性を有する中間層3及び上層フォトレジスト層4を形成した多層レジスト7。前記多層レジスト7に多重コントラスト露光10を行い、その後現像を行う多重コントラストレジストパターンの製造方法。
請求項（抜粋）：
支持体上に下層フォトレジスト層を形成する第1工程と、光退色性及び/又は光吸収性を有する中間層を形成する第2工程と、上層フォトレジスト層を形成する第3工程と、多重コントラスト露光を行う第4工程と、現像を行う第5工程と、を備えたことを特徴とする多重コントラストレジストパターンの製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/26 511
, G03F 7/095
, H01L 21/027
