縮小投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-257807
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102007
出願日： 1991年10月04日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】アライメントマークの認識誤差が生じないようにしてアライメント精度の向上を図る。【構成】オゾンガスの発生器3が設けられている。更に、該発生器3で発生したオゾンガスをシリコン基板1のアライメントマーク上に吹付けるノズル4が設けられている。加えて、前記シリコン基板1におけるオゾンガス吹付け部にクリプトンフロライドガスを利用したエキシマレーザ5のレーザ光を照射する照射手段8が設けられている。これによりアライメントマーク上のホトレジスト2のみを除去することができ、高精度のアライメントが可能となる。

請求項（抜粋）：

オゾンガスの発生器と、該発生器で発生したオゾンガスを半導体基板の一部に選択的に吹付けるノズルと、前記半導体基板におけるオゾンガス吹付け部に遠紫外光を含む光を照射する照射手段とを備えていることを特徴とする縮小投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/268

FI (2件)：

H01L 21/30 311 M , H01L 21/30 361 F

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