特許

J-GLOBAL ID：200903044214056472

基板処理装置の制御装置、制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体

発明者： 沼倉 雅博
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-319832
公開番号（公開出願番号）：特開2008-135517
出願日： 2006年11月28日
公開日（公表日）： 2008年06月12日
要約：

【課題】ロット毎に要求される微細加工の程度に応じてウエハの搬送を制御する。【解決手段】基板処理装置は、ウエハWに所定の処理を施す複数のPM400とウエハWを搬送する搬送機構を内蔵するLLM500とを備える。EC200は、基板処理装置を制御する。EC200の選択部255は、次にウエハWを搬送すべきPM400を選択するとともに、ロット毎に要求される微細加工の程度に応じて、同一PMに搬送するウエハWの単位を1ロット単位または1ウエハ単位のいずれにするかをロット毎に選択する。EWC200の搬送制御部260は、ロット単位の搬送が選択された場合、該当ロットに含まれるウエハWを選択された同一PM400に順に搬送し、ウエハ単位の搬送が選択された場合、該当ロットに含まれる各ウエハWを選択されたPM400から他のPM400に一枚ずつ順にOR搬送する。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を施す複数の処理室と前記基板を搬送する搬送機構とを備えた基板処理装置を制御する制御装置であって、 次に搬送すべき処理室を選択するとともに、ロット毎に要求される微細加工の程度に応じて、同一処理室に搬送する基板の単位を1ロット単位または1基板単位のいずれにするかをロット毎に選択する選択部と、 前記選択部により選択された単位に含まれる基板を前記選択部により選択された処理室に順に搬送する搬送制御部とを備える制御装置。

IPC (6件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/677 ,  B65G 49/07

FI (6件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/205 ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/68 A ,  B65G49/07 C

Fターム (33件)：

5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA09 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F004BD06 ,  5F004BD07 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA31 ,  5F031MA32 ,  5F031PA02 ,  5F045AA08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ14 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13 ,  5F045EH20 ,  5F045GB15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭63-133532号公報
  
• 真空処理装置の運転方法及び真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-223339   出願人：株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-139775   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 生産制御システム及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-068680   出願人：日本電気株式会社
• プロセス制御装置およびプロセス制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-066477   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社