特許
J-GLOBAL ID：200903044214543888
極薄有機質ブラックマトリックス
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萼 経夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-279742
公開番号（公開出願番号）：特開平10-232302
出願日： 1997年09月26日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：
【要約】【課題】カーボンブラックを必要としない新規のブラックマトリックスコーティング材の提供【解決手段】(a)ポリイミド前駆体ビヒクル及びそれを溶かす溶媒又は溶媒混合物の組合せ;(b)上記(a)の組合せに溶解し、そして紫外から赤外までの全ての光の吸収能を有する光吸収染料又はその染料の混合物、及び(c)実質的に黒色である非カーボンブラック系の金属酸化物顔料又はその顔料の混合物と、ニュートン分散体とするための分散剤;から成り、最終焼成後の塗布膜厚が1.0μmの時、その塗布膜が105Ω/□より大きい表面抵抗と2.0以上の光学濃度を兼備するフォトリソグラフィー法により画像形成可能なブラックマトリックスコーティング材。
請求項（抜粋）：
下記(a)、(b)及び(c):(a)ポリイミド前駆体ビヒクル及びそれを溶かす溶媒又は溶媒混合物の組合せ;(b)上記(a)の組合せに実質的に溶解し、〔削除:実質的に完全にビヒクル及び溶媒に溶解し、〕そして紫外から赤外までの広いスペクトルに渡って実質的に全ての光の吸収能を有する溶解性の光吸収染料又はその染料の混合物;及び(c)実質的に黒色である非カーボンブラック系の金属酸化物顔料又はその顔料の混合物と、ニュートン分散体とするための分散剤;から本質的に成り、最終焼成後の塗布膜厚が1.0μmの時、その塗布膜が105Ω/□より大きい表面抵抗と2.0以上の光学濃度を兼備するフォトリソグラフィー法により画像形成可能なブラックマトリックスコーティング材。
IPC (5件)：
G02B 5/00
, C09D179/08
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 500
, G09F 9/30 349
G02B 5/00 B
, C09D179/08 Z
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 500
, G09F 9/30 349 C
