特許
J-GLOBAL ID：200903044242486776
化合物組成比測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西岡 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-210136
公開番号（公開出願番号）：特開平7-063668
出願日： 1993年08月25日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造においてイオン注入工程、拡散工程等を中断することなく、また試料を損傷することなく、変調分光法により精度良く、化合物半導体組成比を求める。【構成】 変調された励起光Lが照射された試料5の箇所に、白色光(プロ-ブ光)Pを照射して反射スペクトルを検出する。この反射スペクトルから得られた吸収端エネルギーと化合物半導体の組成比とは相関関係があり、既知デ-タを用いた検量線から化合物半導体の組成比を検出する。
請求項（抜粋）：
プロ-ブ光を照射するプロ-ブ光源と、試料表面のプロ-ブ光照射位置に変調励起光を照射する励起光源と、プロ-ブ光の反射光から変調に同期した反射スペクトルを検出する手段とを備え、上記検出した反射スペクトルから求めた試料の吸収端エネルギーにより化合物組成比を求めることを特徴とする化合物組成比測定装置。
IPC (3件)：
G01N 21/00
, G01J 3/433
, H01L 21/66
