パターン形成方法およびカラーフィルター製造方法および液晶表示素子

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西山恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-155762
公開番号（公開出願番号）：特開2003-345002
出願日： 2002年05月29日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】インクジェット法においてパターン形成を実施しようとした場合、隔壁となる凸部の撥インク性が重要となるが、プロセス数の増加、歩留まり低下、耐久性の劣化など不利益を被らずに、十分な撥インク性を得ることのできるパターン形成方法を提供する。【解決手段】インクジェット法のための、ネガ型レジストのパターン露光法において、エネルギー線により現像液不溶性となるネガ型レジスト表面のインクに対する接触角が、未照射部の現像液可溶性表面部のインクに対する接触角よりも大きくなる環境雰囲気中でエネルギー線を照射しパターンを形成するパターン形成方法を提供する。

請求項（抜粋）：

基板にネガ型レジストを塗布形成し、プリベークを行った後、前記ネガ型レジスト塗布基板にエネルギー線を照射して、エネルギー線照射部は現像液不溶性に、未照射部は現像液可溶性とした後、現像を行い、未照射部のレジストを、溶解除去を行うことにより、基板表面部を露出させ、該基板表面部にインクジェット法によりインクを付与し任意のパターンを得るパターン形成方法において、該エネルギー線により現像液不溶性となるネガ型レジスト表面のインクに対する接触角が、未照射部の現像液可溶性表面部のインクに対する接触角よりも大きくなる環境雰囲気中でエネルギー線を照射しパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (9件)：

G03F 7/004 521 , G02B 5/20 101 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1335 505 , G03F 7/038 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 505 , G03F 7/40

FI (9件)：

G03F 7/004 521 , G02B 5/20 101 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1335 505 , G03F 7/038 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 505 , G03F 7/40

Fターム (58件)：

2H025AB13 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC32 , 2H025BC42 , 2H025CA01 , 2H025CA14 , 2H025CA26 , 2H025CA28 , 2H025CA48 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CC03 , 2H025CC12 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H048BA02 , 2H048BA11 , 2H048BA64 , 2H048BB02 , 2H048BB14 , 2H048BB22 , 2H048BB37 , 2H048BB42 , 2H088FA21 , 2H088HA01 , 2H088HA02 , 2H088HA08 , 2H088HA12 , 2H088HA14 , 2H088HA22 , 2H088MA20 , 2H091FA02Y , 2H091FC10 , 2H091FC23 , 2H091FC24 , 2H091GA01 , 2H091GA02 , 2H091GA13 , 2H091LA30 , 2H096AA28 , 2H096BA01 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096EA04 , 2H096EA06 , 2H096GA08 , 2H096LA16 , 2H097AA03 , 2H097BA02 , 2H097CA12 , 2H097CA16 , 2H097CA17 , 2H097LA12

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