特許
J-GLOBAL ID：200903044254042482
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-131775
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320926
出願日： 1996年05月27日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：
【要約】【課題】 ウエハの裏面に存在する異物やウエハの反りに起因する不良ショット領域を早期に発見する。【解決手段】 基板W上のショット領域にマスクパターンを投影する露光方法において、基板W上のショット領域を投影光学系PLの露光フィールド内に設定し、ショット領域内の所定の計測点7における投影光学系PLの結像面とのずれ量Z1を計測する第1工程と、第1工程の後、ショット領域を投影光学系PLの結像面に対して所定の傾きに補正し、当該補正動作における高さ変位量Z2を計測する第2工程と、第2工程において傾きが補正されたショット領域内の所定の計測点7において、投影光学系PLの結像面とのずれ量Z3を計測する第3工程と、ショット領域にマスクパターンを投影する第4工程とを有する。
請求項（抜粋）：
基板上のショット領域にマスクパターンを投影光学系を介して投影する露光方法において、前記基板上のショット領域を前記投影光学系の露光フィールド内に設定し、前記露光フィールド内の所定の計測点で前記ショット領域の表面を前記投影光学系の結像面に合焦させる第1工程と、前記ショット領域を前記結像面に対して所定の傾きに補正し、当該補正動作における前記ショット領域の高さ変位量を算出する第2工程と、該第2工程において前記傾きが補正された後、前記計測点で前記ショット領域の表面を前記結像面に合焦させる合焦動作を行うと共に、当該合焦動作前後における前記ショット領域の高さ変位量を計測する第3工程と、前記第2工程で算出された前記高さ変位量と前記第3工程で計測された前記高さ変位量を比較する第4工程とを有することを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01B 11/30
, G03F 7/207
H01L 21/30 526 B
, G01B 11/30 D
, G03F 7/207 H
