特許

J-GLOBAL ID：200903044268055498

薬液供給装置及び薬液供給方法

発明者： 斉木 浩之 ,  前畑 勝利
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立北海セミコンダクタ株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-136353
公開番号（公開出願番号）：特開平8-323106
出願日： 1995年06月02日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】半導体装置の製造でレジスト塗布、現像、洗浄等に用いる薬液供給装置において、トラップタンク内で薬液中に混入した気泡を効果的に捕足し、配管内の気泡通過を防止する技術及び装置を提供する。【構成】半導体基板の裏面洗浄薬液供給系ではフィルタと洗浄ノズルの間にトラップタンク4が設けられている。該タンク4はタンク主体4a、主体の下部に設けられた薬液19の入口のインレット16及び出口のアウトレット17、薬液からの脱気気体の排気用バルブ15から構成されている。薬液19はタンク主体の下部からタンク内の貯溜薬液中に直接流入するため、薬液中の気泡の増加を防止できる。さらにトラップタンク4内の底部に仕切り板14a,14cが、天井部に14bがそれぞれ垂直に形成されている。従って薬液はタンク内を上下に蛇行通過するので、薬液の上昇下降時に薬液中の気泡20は液面まで上昇し、捕捉部21,22で補捉される。

請求項（抜粋）：

電子材料又は精密機器部品を薬液処理するための薬液を、該薬液中のエアをトラップするトラップタンクを通過させて供給する薬液供給装置であって、前記トラップタンクには、その内部に仕切り板を形成し、該仕切り板は、前記トラップタンクの底部と天井部に交互に形成していることを特徴とする薬液供給装置。

IPC (5件)：

B01D 19/00 ,  B01J 4/00 103 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

B01D 19/00 Z ,  B01J 4/00 103 ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 J