特許

J-GLOBAL ID：200903044272768733

標準ガスの調製方法および装置

発明者： 田中 茂
出願人/特許権者： 学校法人慶應義塾
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-125372
公開番号（公開出願番号）：特開2003-315216
出願日： 2002年04月26日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】 HNO3、HCl、H2O2、ホルムアルデヒド等のような不安定なガスを、低濃度で安定な標準ガスとして長期間発生させる方法および装置の開発。【構成】 ガスを高濃度に溶け込ませた溶液から気-液平衡(ヘンリー則)によりガスを空気中に発生させるディフュージョンチューブ法による標準ガスの調製方法において、ガスを高濃度に溶け込ませた溶液から拡散スクラバー法によりガスを透過する膜を通してガスを空気中に発生させるとともに、該空気として、該空気中の不純物微量ガスを拡散スクラバー法によりガスを透過する膜を通してガスを溶け込ませていない吸収溶液に吸収除去した清浄空気を用いる。

請求項（抜粋）：

ガスを高濃度に溶け込ませた溶液から気-液平衡(ヘンリー則)によりガスを空気中に発生させるディフュージョンチューブ法による標準ガスの調製方法において、ガスを高濃度に溶け込ませた溶液から拡散スクラバー法によりガスを透過する膜を通してガスを空気中に発生させるとともに、該空気として、該空気中の不純物微量ガスを拡散スクラバー法によりガスを透過する膜を通してガスを溶け込ませていない吸収溶液に吸収除去した清浄空気を用いることを特徴とする標準ガスの調製方法。

IPC (5件)：

G01N 1/00 102 ,  B01D 19/00 ,  B01D 61/00 ,  B01J 7/02 ,  C02F 1/20

FI (5件)：

G01N 1/00 102 D ,  B01D 19/00 H ,  B01D 61/00 ,  B01J 7/02 Z ,  C02F 1/20 A

Fターム (53件)：

2G052AA01 ,  2G052AA03 ,  2G052AA39 ,  2G052AB01 ,  2G052AB11 ,  2G052AB27 ,  2G052AD22 ,  2G052AD26 ,  2G052AD42 ,  2G052CA03 ,  2G052CA12 ,  2G052EA02 ,  2G052EB01 ,  2G052EB12 ,  2G052JA16 ,  4D006GA25 ,  4D006KA01 ,  4D006KA17 ,  4D006KB19 ,  4D006KE16Q ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MB04 ,  4D006MC30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB12 ,  4D006PB25 ,  4D006PB26 ,  4D006PB70 ,  4D006PC38 ,  4D006PC41 ,  4D006PC72 ,  4D006PC80 ,  4D011AA17 ,  4D011AB02 ,  4D011AC04 ,  4D011AD02 ,  4D011AD06 ,  4D037AB11 ,  4D037AB12 ,  4D037AB13 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB01 ,  4D037BB06 ,  4D037CA03 ,  4G068AA02 ,  4G068AB04 ,  4G068AC17 ,  4G068AC20 ,  4G068AD12 ,  4G068AD39 ,  4G068AF31