特許
J-GLOBAL ID：200903044274358036
ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-115555
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316846
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：
【要約】【構成】 CMP排水をまず比較的小さい孔径の多孔質膜で濃縮し、次に比較的大きい孔径の多孔質膜を透過させ、濾過水と濃縮水を回収して再使用、又は、濃縮水に凝集剤を添加し、固形物にして回収する。【効果】 CMP排水処理用膜濾過装置の設置スペースが小さく、濾過水と濃縮水は再度使用するためコストメリットが大きい。又、濃縮水中の砥粒を固形化して回収することもできるため作業性が良い。
請求項（抜粋）：
ケミカルメカニカルポリッシング液を用いてウエハーをポリッシングした際生じる廃液を、まず、0.2μm以下の孔径を有する膜で濾過し、該濾過液を1μm以上の孔径を有する膜を用いて濾過することを特徴とするケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法。
IPC (3件)：
C23F 1/46
, B01D 61/14 500
, B01D 61/58
