特許
J-GLOBAL ID：200903044277374210
エッチング処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-128292
公開番号（公開出願番号）：特開平6-316778
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】 塩化第二銅エッチング液による銅のエッチング処理後のエッチング液の再生が容易なエッチング処理装置を提供すること。【構成】 エッチング反応槽1内では塩化第二銅エッチング液による銅のエッチング処理が行なわれ、再生液槽2及び循環路Aでは、エッチング液中の塩化第一銅濃度と塩化第二銅濃度及び塩酸濃度が検出され、塩化第一銅濃度が高くなると、制御手段6の指令により酸化ガス供給手段3からの塩素ガス供給による塩化第一銅の酸化が行なわれ塩化第二銅が再生される。また塩化第二銅濃度が高くなると、制御手段6の指令によりエッチング液は晶析槽4へ送られて塩酸濃度に応じて塩酸供給手段より塩酸が供給されると共に冷却され、塩化第二銅の結晶化が行なわれる。そして固液分離手段5により塩化第二銅の結晶を取り出した後、濾液は再生液槽2へ送られて再びエッチング液として使用される。
請求項（抜粋）：
塩化第二銅溶液からなるエッチング液を用いて銅をエッチング処理するエッチング反応部と、前記エッチング反応部より流出するエッチング液を前記エッチング反応部に循環して供給するための循環路と、この循環路中のエッチング液に空気または酸素ガスを供給し、これによりエッチング液中の塩化第一銅を酸化して塩化第二銅を再生する酸化ガス供給手段と、前記循環路におけるエッチング液に塩酸を添加し、エッチング液中の塩化第二銅を析出させる晶析部と、この晶析部において析出した塩化第二銅を前記エッチング液から分離させる固液分離手段と、を有してなることを特徴とするエッチング処理装置。
IPC (3件)：
C23F 1/18
, C23F 1/08 101
, C23F 1/46
