特許

J-GLOBAL ID：200903044287406285

磁気ディスク基板研磨用組成物

発明者： 石飛 健 ,  今井 文男 ,  宮田 憲彦 ,  別所 直紀 ,  貴堂 高徳 ,  阪本 博
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社 ,  山口精研工業株式会社
代理人 (1件)： 内田 幸男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-153326
公開番号（公開出願番号）：特開平9-316430
出願日： 1996年05月24日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：

【要約】【課題】 表面粗さが小さく、かつ研磨傷の殆どない研磨面が得られ、しかも高速研磨が可能であり、高密度記録が可能な磁気ディスクを得るのに適した研磨用組成物を提供する。【解決手段】 水、αアルミナ研磨剤および研磨促進剤を含んでなる組成物であって、研磨促進剤がシュウ酸アルミニウムからなる磁気ディスク研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

水、αアルミナおよび研磨促進剤を含んでなる組成物であって、該研磨促進剤がシュウ酸アルミニウムからなることを特徴とする磁気ディスク基板研磨用組成物。

IPC (5件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  C09K 13/06 101 ,  G11B 5/84

FI (5件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  C09K 13/06 101 ,  G11B 5/84 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 磁気記録媒体基板製造用研磨材組成物及び磁気記録媒体用基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-341720   出願人：花王株式会社
• メモリーハードディスクの研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-113660   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド