特許

J-GLOBAL ID：200903044322200954

オゾン注入システム

発明者： 西 高志 ,  松尾 俊明 ,  松本 隆行
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177769
公開番号（公開出願番号）：特開2001-000986
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】オゾンガスを用いた廃液の処理システムにおいて、オゾンガスを製造する原料ガスを節約し、運転コストを低減する。【解決手段】有機物を含む放射性廃液に、酸素ガス、あるいは酸素富化空気を原料ガスとしてその無声放電により発生するオゾンを曝気し、廃液中にオゾンを溶解する処理方法において、曝気後の気体を循環し前期原料ガスに混合する。

請求項（抜粋）：

有機物を含む放射性廃液に、酸素ガス、あるいは酸素富化空気を原料ガスとしてその無声放電により発生するオゾンを曝気し、廃液中にオゾンを溶解する処理方法において、曝気後の気体を循環し前期原料ガスに混合することを特徴とするオゾン注入システム。

IPC (5件)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01F 1/00 ,  C01B 13/10 ,  G21F 9/06 551 ,  G21F 9/28 525

FI (5件)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01F 1/00 A ,  C01B 13/10 D ,  G21F 9/06 551 A ,  G21F 9/28 525 G

Fターム (15件)：

4D050AA13 ,  4D050AB02 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4G035AA01 ,  4G035AE13 ,  4G042AA07 ,  4G042CA01 ,  4G042CB12 ,  4G042CE04