特許

J-GLOBAL ID：200903044334257676

ホスホリパーゼA2阻害活性を有する新規フタルイミド誘導体

発明者： 小林 孝次 ,  萩原 篤 ,  西井 一彦 ,  岡本 均 ,  内田 逸郎
出願人/特許権者： 日本たばこ産業株式会社 ,  吉富製薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-103812
公開番号（公開出願番号）：特開平6-312978
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 フタルイミド誘導体〔I〕及び薬学的に許容される塩、ならびに当該フタルイミド化合物を製造する為の前段階中間体である式〔II〕のフタルイミド誘導体。〔式中、Xは(置換)低級アルキル基、(置換)フェニル基、ピリジル基、チェニル基等を;Zはメチル基、(置換)フェニル基、カルバゾリル基等を;Yは-O-,-S-を;示し、m=0,1、n=2〜20である〕【効果】 上記のフタルイミド誘導体は、ホスホリパーゼA2阻害作用を有し、アレルギー性疾患、関節炎、リューマチ等の予防薬及び治療薬として有用である。

請求項（抜粋）：

下記一般式〔I〕【化1】〔式中、Xは置換されてもよい低級アルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘテロアリール基、又は【化2】(式中、R1 及びR2 は、水素原子、水酸基又は低級アルコキシ基である)であり、nは、2乃至20の整数であり、Yは、-O-又は-S-であり、mは0乃至1の整数であり、Zは、【化3】(式中、R3 、R4 及びR5 は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、カルボキシル基又は低級アルコキシ基である)である〕で表される新規フタルイミド誘導体及び薬学的に許容される塩。

IPC (11件)：

C07D209/48 ,  A61K 31/40 ABE ,  A61K 31/40 ABF ,  A61K 31/40 ABG ,  A61K 31/40 AED ,  C07D401/12 209 ,  C07D403/12 209 ,  C07D405/12 209 ,  C07D409/12 209 ,  C07D413/12 209 ,  C07D417/12 209