無水ギ酸の製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-553251
公開番号（公開出願番号）：特表2003-524640
出願日： 2001年01月12日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：

【要約】本発明は無水もしくはほぼ無水のギ酸を製造する方法に関する。この場合、まずギ酸メチルの加水分解により水性ギ酸を製造し、その際、ギ酸メチルから予め、その中に含有されているメタノールを除去する。本発明による方法は、ギ酸メチルを加水分解する前に、メタノールを含有するギ酸メチルから蒸留塔中でメタノールを除去し、その際、前記の塔は同時にギ酸を後処理する際の別の分離機能のためにも使用されることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

無水もしくはほぼ無水のギ酸を製造するために、 i)ギ酸メチルを加水分解し、 ii)得られた加水分解混合物からメタノールならびに過剰のギ酸メチルを留去し、 iii)蒸留(ii)の、ギ酸および水を含有する塔底生成物を、主としてギ酸を吸収する抽出剤を用いて液-液抽出で抽出し、 iv)その際に得られるギ酸、抽出剤および水の部分量を含有する抽出相を蒸留し、 v)この蒸留の際に得られる水およびギ酸の部分量を含有する塔頂生成物を工程(ii)の蒸留装置の下方部分に返送し、 vi)蒸留工程(iv)の、主として抽出剤およびギ酸を含有する塔底生成物を蒸留により無水もしくはほぼ無水のギ酸と抽出剤とに分離し、かつ vii)工程(vi)を離れる抽出剤を方法工程に返送する方法において、ギ酸メチルの加水分解(工程i))の前に、メタノールを含有するギ酸メチルを工程ii)の実施のために備えられた蒸留装置へ案内し、その際、蒸留装置中で、メタノールを含有するギ酸メチルの相応する供給箇所はメタノールのための取り出し箇所の上方およびギ酸メチルのための取り出し箇所の下方に存在し、かつギ酸メチルのための取り出し箇所において、メタノールが除去されたギ酸メチルが得られ、該ギ酸メチルを引き続き工程i)に返送することを特徴とする、無水もしくはほぼ無水のギ酸の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 51/09 , C07C 51/44 , C07C 51/48 , C07C 53/02

FI (4件)：

C07C 51/09 , C07C 51/44 , C07C 51/48 , C07C 53/02

Fターム (11件)：

4H006AA02 , 4H006AC46 , 4H006AD11 , 4H006AD16 , 4H006BD31 , 4H006BD33 , 4H006BD51 , 4H006BD53 , 4H006BD84 , 4H006BE60 , 4H006BS10

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開昭56-008341
特開昭61-043133
特開昭62-039541

全件表示

審査官引用 (10件)

特開昭56-008341
特開昭61-043133
特開昭62-039541

全件表示

前のページに戻る