特許
J-GLOBAL ID：200903044339882390

有機溶剤を含む被処理ガスの処理設備、有機溶剤の回収方法および有機溶剤の再利用方法

発明者：
中島 健次

中島 健次 について

, 
安田 秀樹

安田 秀樹 について


出願人/特許権者：
中島 健次

中島 健次 について

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東洋インキ製造株式会社

東洋インキ製造株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-040036
公開番号（公開出願番号）：特開2009-195828
出願日： 2008年02月21日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：
【課題】 回収有機溶剤中に混入する水分および酸の量を低減し、蒸留などの精製や中和を行なうことなく効率的に有機溶剤を回収し、さらに回収した有機溶剤を容易に印刷インキ組成物の原料として再利用でき、さらに回収の際に爆発の危険性を大幅に低減できる、有機溶剤の回収処理設備、有機溶剤の回収方法および再利用方法を提供すること。【解決手段】 被処理ガス中に含まれる水分を除去する除湿装置2と、被処理ガス中の有機溶剤を吸着除去する活性炭吸着装置3と、加熱された不活性ガスを送給する加熱ガス供給装置4と、脱着ガス中に含まれる酸成分を除去する化学吸着処理装置5と、供出ガスを脱水する冷却装置6と、脱着ガス中に含まれる有機溶剤を回収する回収装置7と、を有することを特徴とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
印刷時に発生する有機溶剤を含む被処理ガス中に含まれる水分を除去する除湿装置と、除湿された被処理ガス中の有機溶剤を吸着除去するためのハニカム状活性炭が充填・装着された活性炭吸着装置と、 この活性炭吸着装置によって吸着された有機溶剤を活性炭から脱着するため加熱された不活性ガスを送給する加熱ガス供給装置と、 この加熱された不活性ガスにより脱着された脱着ガス中に含まれる酸成分を除去するための化学吸着剤が充填・装着された化学吸着処理装置と、 この脱着ガスを脱水する冷却装置と、 脱水された脱着ガス中に含まれる有機溶剤を回収する回収装置と、 を有することを特徴とする有機溶剤を含む被処理ガスの処理設備。
IPC (6件)：
B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/40 ,  B01D 53/26 ,  B41F 31/00 ,  B41F 31/20
FI (5件)：
B01D53/34 117B ,  B01D53/34 118Z ,  B01D53/26 101B ,  B41F31/00 C ,  B41F31/20
Fターム (28件)：
2C250DA01 ,  2C250DA02 ,  4D002AA40 ,  4D002AB01 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA13 ,  4D002CA05 ,  4D002DA03 ,  4D002DA12 ,  4D002DA16 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002EA02 ,  4D002EA08 ,  4D002FA01 ,  4D002HA02 ,  4D002HA04 ,  4D052AA02 ,  4D052CB00 ,  4D052DA06 ,  4D052DB01 ,  4D052EA01 ,  4D052HA01 ,  4D052HA03 ,  4D052HA21
引用特許：
出願人引用 (3件)

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