特許

J-GLOBAL ID：200903044345144881

膜厚測定方法及びその装置並びにその記録媒体

発明者： 藤井 孝佳
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-009236
公開番号（公開出願番号）：特開2001-201318
出願日： 2000年01月18日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：

【要約】【課題】複数の各層の少なくとも膜厚を精度高くかつ迅速に測定すること。【解決手段】多層(Si基板8、SiO2層7、SiN層6)からなる被観察対象物5をSEM1により撮像してそのSEM画像データQを取得し、このSEM画像データQの濃淡値をプロジェクション処理手段15により積算して濃度プロファイルを求め、次にこの濃度プロファイルを一次微分手段16により微分処理してその一次微分濃度プロファイルを求め、これら濃度プロファイルと一次微分濃度プロファイルとに対して直線近似手段17により各パターンのピーク前後において2つの近似直線を求め、これら近似直線の交点から交点算出手段10により上記多層の各境界及びエッジ部を検出し、これら境界部及びエッジ部に基づいて膜厚演算手段20によりSiN層6の膜厚Db、Si基板8のエッチング深さDaを求める。

請求項（抜粋）：

多層からなる被観察対象物を撮像してその画像データを取得する工程と、前記画像データを画像処理して前記多層の各境界部及びエッジ部を検出する工程と、前記各境界部及び前記エッジ部に基づいて前記多層の少なくとも膜厚を求める工程と、を有することを特徴とする膜厚測定方法。

IPC (2件)：

G01B 11/06 ,  G01B 15/02

FI (2件)：

G01B 11/06 H ,  G01B 15/02 B

Fターム (37件)：

2F065AA12 ,  2F065AA25 ,  2F065AA30 ,  2F065BB17 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM01 ,  2F065MM04 ,  2F065MM15 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ45 ,  2F065SS13 ,  2F067AA24 ,  2F067AA27 ,  2F067CC17 ,  2F067DD07 ,  2F067DD10 ,  2F067EE10 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067NN01 ,  2F067RR12 ,  2F067RR31 ,  2F067RR36 ,  2F067RR38 ,  2F067RR40 ,  2F067SS13