特許

J-GLOBAL ID：200903044350020589

レーザビーム均一照射光学系

発明者： 岡本 達樹 ,  森川 和敏 ,  佐藤 行雄 ,  西前 順一 ,  小川 哲也
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社 ,  島田理化工業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-091468
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287705
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】 レーザビームを分割した分割ビームを重ね合わせて照射面上に均一な強度分布を備えた照射ビームを、ビーム間の干渉を軽減して形成する光学系を提供する。【解決手段】 レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において空間的に分割ビームに分割する導波路と、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ用のレンズと、照射面上のビーム強度を均一にする旋光手段とから成り、上記の導波路が、上記の分割ビーム幅が、レーザビーム断面における断面方向の空間的可干渉距離の1/2倍以上であって、上記の変更手段が、上記の分割したビームの互いに隣り合う分割ビームの一方を他方に対して偏光角度を実質的に直交させて分割ビームの照射面上での干渉を軽減する。

請求項（抜粋）：

レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において空間的に分割ビームに分割するレーザビーム分割手段と、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ照射手段と、照射面上のビーム強度を均一にする均一化手段とから、成るレーザビーム均一照射光学系であって、上記の均一化手段が、上記の分割したビームの互いに隣接する隣接分割ビームの一方を他方に対して偏光方向を実質的に直交させる旋光手段を含むことを特徴とするレーザビーム均一照射光学系。

IPC (4件)：

G02B 27/00 ,  G02B 27/28 ,  H01L 21/268 ,  H01S 3/10

FI (4件)：

G02B 27/28 Z ,  H01L 21/268 J ,  H01S 3/10 Z ,  G02B 27/00 V

Fターム (10件)：

2H099AA17 ,  2H099BA09 ,  2H099BA17 ,  2H099CA08 ,  5F072AB13 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK30 ,  5F072MM07 ,  5F072MM08 ,  5F072YY08