特許

J-GLOBAL ID：200903044358961617

表面検査装置および表面検査方法

発明者： 山本 麻理
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-313875
公開番号（公開出願番号）：特開2003-121380
出願日： 2001年10月11日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：

【要約】【課題】 基板などの被検物体の種類(製造工程の種類)を検査員が知らなくても、回折画像の明暗差(コントラスト差)が良好な最適条件の下で、自動的に繰り返しパターンの欠陥検査を行える表面検査装置および表面検査方法を提供する。【解決手段】 回折光L2の進行方向と集光光学系27の光軸方向O2との間の角度に関わる第1装置条件、および、撮像手段28から出力される画像信号の出力レベルに関わる第2装置条件を最適条件に設定する。また、第2装置条件を一定に保ちながら第1装置条件を予め定めた一定範囲内で変化させて該第1装置条件の最適条件を少なくとも1つ決定し、該決定により得られた最適条件の任意の1つに第1装置条件を保ちながら第2装置条件を変化させて該第2装置条件の最適条件を決定する。

請求項（抜粋）：

被検物体に照明光を照射する照明光学系と、前記被検物体からの回折光を集光して被検物体像を形成する集光光学系と、前記被検物体像を撮像して画像信号を出力する撮像手段と、前記撮像手段から前記画像信号を入力して前記被検物体の欠陥を検出する検出手段と、前記回折光の進行方向と前記集光光学系の光軸方向との間の角度に関わる第1装置条件を調整する第1調整手段と、前記撮像手段から出力される前記画像信号の出力レベルに関わる第2装置条件を調整する第2調整手段と、前記撮像手段が前記検出手段による欠陥検出のための前記被検物体像を撮像する前に、前記第1調整手段を制御して前記第1装置条件を最適条件に設定し、前記第2調整手段を制御して前記第2装置条件を最適条件に設定する設定手段と、前記設定手段による条件設定に用いられる前記第1装置条件の最適条件と前記第2装置条件の最適条件との組み合わせを少なくとも1つ決定する決定手段とを備え、前記決定手段は、前記第2装置条件を一定に保ちながら前記第1装置条件を予め定めた一定範囲内で変化させて該第1装置条件の最適条件を少なくとも1つ決定し、該決定により得られた最適条件の任意の1つに前記第1装置条件を保ちながら前記第2装置条件を変化させて該第2装置条件の最適条件を決定することを特徴とする表面検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 1/00 400 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A ,  G06T 1/00 305 A ,  G06T 1/00 400 D ,  H01L 21/66 J

Fターム (54件)：

2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BB07 ,  2G051BB11 ,  2G051BB17 ,  2G051BC01 ,  2G051BC04 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051DA01 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EC03 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB13 ,  4M106DB19 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ39 ,  5B047AA12 ,  5B047AB02 ,  5B047BA02 ,  5B047BB04 ,  5B047BC07 ,  5B047BC08 ,  5B047BC09 ,  5B047BC11 ,  5B047BC14 ,  5B047CA17 ,  5B047CA19 ,  5B047CB22 ,  5B047DC02 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA11 ,  5B057BA17 ,  5B057BA30 ,  5B057CA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC22 ,  5B057DC33