特許
J-GLOBAL ID:200903044363224973
メイク洗浄料
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 祐司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-110280
公開番号(公開出願番号):特開平7-291830
出願日: 1994年04月25日
公開日(公表日): 1995年11月07日
要約:
【要約】【構成】 化1のポリオキシエチレンモノエステルと、化2のアルキルグリコシドを含有するメイク洗浄料。特に、ポリオキシエチレンモノエステルがモノイソステアレート及び/又はモノオレエートである前記メイク洗浄料。【化1】(式中、Rは飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(式中、aは1〜15の整数、bは7〜19の整数をそれぞれ表わす。)【効果】 メイクを落とす効果に優れていると同時に、水を加えることによって泡立たせることができ、使用後の肌にさっぱりした感触を与えるものである。
請求項(抜粋):
一般式化1で表わされるポリオキシエチレンモノエステルと、一般式化2で表わされるアルキルグリコシドを含有することを特徴とするメイク洗浄料。【化1】(式中、Rは飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(式中、aは1〜15の整数、bは7〜19の整数をそれぞれ表わす。)
IPC (5件):
A61K 7/02
, A61K 7/50
, C11D 1/825
, C11D 1:68
, C11D 1:74
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