特許
J-GLOBAL ID：200903044365715427
レーザ照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 祐介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-017977
公開番号（公開出願番号）：特開平11-197868
出願日： 1998年01月14日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：
【要約】【課題】 レーザ強度分布の平坦度を向上させる。【解決手段】 半導体レーザチップ12からの出射レーザビームをハーフミラー16で2つに分岐し、これらをミラー17、18およびフォーカシングレンズ群19、20をそれぞれ経て被加熱物体21の表面に、互いに横方向(光軸に直角な方向)では所定の距離だけシフトさせるようにして、集光させ、これによりレーザ強度分布の山と谷が打ち消し合うようにし、強度分布の平坦度を上げる。
請求項（抜粋）：
レーザ発生手段と、該レーザ発生手段から出射するレーザビームを複数に分岐する分岐手段と、分岐された複数のレーザビームを、それらのビームが所定の距離だけ横方向にシフトして重なるよう、それぞれ集光する集光手段とを備えることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K 26/06 E
, G02B 27/00 E
