特許
J-GLOBAL ID：200903044373980075
光回折構造転写シート及びそれを用いたカード
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-353895
公開番号（公開出願番号）：特開平10-187046
出願日： 1996年12月19日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】 光回折構造転写シートの転写層の耐摩耗性を改善し、磁気カード等の磁気記録層の上に転写しても、その磁気記録層特性を損なわず、且つ耐摩耗性等性能に優れた光回折構造を付与できる光回折構造転写シートと、それを用いてなる耐久性に優れた光回折構造付きカードを提供する。【解決手段】 支持体シート上に離型性樹脂層を設け、その上に光回折構造転写層7を、保護層3、光回折構造形成層4、光反射層5、接着層6を順に積層して形成し、且つ該保護層3を厚さ0.5 〜4.0 μmの電離放射線硬化型樹脂で形成することにより、磁気記録層上に転写した場合にも、磁気記録層特性を損なわず、又、テーバー形アブレーザーによる耐摩耗性試験で 100回以上の耐久性を有する光回折構造転写シートを得る。そして、前記光回折構造転写シートを用いて磁気カード等に光回折構造転写7を転写して光回折構造付きカード30を構成する。
請求項（抜粋）：
少なくとも一方の面に離型性樹脂層が設けられた支持体シートと、該支持体シートの離型性樹脂層の上に形成されている光回折構造転写層とからなる光回折構造転写シートにおいて、前記光回折構造転写層が、支持体シート側から、保護層、光回折構造形成層、光反射層、接着層を順に積層した積層構造を有し、且つ該保護層が、厚さ0.5〜4.0μmの電離放射線硬化型樹脂で形成され、被転写体に転写後の光回折構造転写層の耐摩耗性がテーバー形アブレーザーによる耐摩耗試験で100回以上の耐久性を有することを特徴とする光回折構造転写シート。
IPC (4件)：
G09F 3/02
, B42D 15/10 501
, G09F 1/02
, G09F 19/12
G09F 3/02 W
, B42D 15/10 501 G
, G09F 1/02 K
, G09F 19/12 L
