特許
J-GLOBAL ID：200903044375622222
被製造装置に対する製造プロセスフローの設計方法及び半導体装置のための半導体製造プロセスフローを設計するためのコンピュータシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099429
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083943
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】【課題】 製造されるべき装置の製造プロセスフロー、特に超小形電子装置の製造プロセスフローの設計の費用及びサイクルタイムを減少するための方法及びプロセスを実現する。【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明は、プロセスモジュールと称する再使用可能なサブシーケンスを組み合わせてプロセスフローを形成する技術を提案する。本発明の一実施例の方法は、プロセスフローを設計する仕事を多くの抽象化レベルに分割し、それらの抽象化レベルの間における移転を行うための機構を提供する。そして、プロセス自体は、それぞれがプロセスの制約を有する多数のモジュールに分割される。このプロセスの制約は、最後のモジュールから最初のモジュールに向けて後方に伝搬される。必要ならば、プロセスの制約はまた、初期のモジュールから後期のモジュールに向けて前方に伝搬されることもできる。
請求項（抜粋）：
被製造装置のための製造プロセスフローの設計方法であって、前記設計方法の段階として、(イ)前記製造プロセスフローを区分して、少なくとも前記被製造装置の性能の指定を記述するための前記装置の性能のレベルと、所要の性能が得られるように変更可能な前記装置の特徴を記述するための前記装置の状態の指定を有する前記装置の設計因子のレベルと、モジュール効果のレベルとを含む複数の抽象化レベルに分ける段階、(ロ)前記製造装置の性能の指定を、前記装置の性能のレベルから前記装置の設計因子のレベルにおける前記装置の状態の指定へと変換する段階、並びに(ハ)前記装置の設計因子のレベルと前記モジュール効果のレベルとの間において、下記の段階を含むシーケンスにより変換を行う段階、(i)少なくとも2つのモジュールを形成するように集団化されうる処理のシーケンスであって、前記処理のモジュールの各々は出力時の装置状態と入力時の装置状態とを有し、かつ、前記少なくとも2つのモジュールは少なくとも最初のモジュールと最後のモジュールとを含むモジュールのシーケンスを形成している前記処理のシーケンスを識別すること、(ii)前記モジュールの各々に対するモジュールモデルを、前記入力時の装置状態に対して起こり得る1組の前記出力時の装置状態を指定する、抽象化の前記モジュール効果のレベルにおける制約の受容可能領域として記述すること、及び(iii)前記モジュールのシーケンスの中で前記最後のモジュールより後方に向けて前記最初のモジュールの方向に、前記最後のモジュールの制約を、より早期のモジュールの制約と次ぎ次ぎに交差させることにより伝搬させること、を包含することを特徴とする被製造装置に対する製造プロセスフローの設計方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 Z
, G06F 15/21 R
