真空処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：亀谷美明 , 金本哲男 , 萩原康司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001008624
公開番号（公開出願番号）：WO2002-029877
出願日： 2001年10月01日
公開日（公表日）： 2002年04月11日
要約：

装置のメンテナンスを容易にするとともに,メンテナンスサイクルを延長させ,スループットの向上を可能にする。処理室2と予備真空室3は,壁面に形成された搬送口20によって接続されている。搬送口20の内壁には,複数の部材からなり,着脱自在なゲートライナー100が設置されている。搬送口内壁のメンテナンス時はゲートライナー100のみを外して洗浄,交換等を行えばよいので容易である。ゲートライナー100の表面とゲートバルブ4の搬送口20を覆う部分の表面には耐プラズマエロージョン性が高い希土類酸化物溶射被膜からなる絶縁被膜200,300が施されている。そのため,これらの表面にはプラズマによる損傷が生じ難く,金属汚染や発塵を低減できる。

請求項（抜粋）：